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佳能將收購 Molecular Imprints 半導體業務

2014年02月14日11:03:08 本網站 我要評論(2)字號:T | T | T
關鍵字:應用 半導體 

合并后分拆出一家獨立公司,重點發展納米技術市場機遇

 

納米圖案成形系統與解決方案的市場與技術領導者 Molecular Imprints Inc. (MII) 今天宣布已簽約將半導體壓印光刻設備業務出售給日本東京的佳能 (Canon Inc.)。佳能目前生產并銷售 KrF 準分子和i線照明光學光刻平臺。為打入尖端高分辨率圖案成形光刻設備市場,佳能2004年開始研究納米壓印技術。自2009年以來,該公司一直與 MII 及一家量產型半導體制造商攜手采用 MII 的 Jet and Flash™ 壓印光刻 (J-FIL™) 技術來進行開發。

(圖標:http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

Molecular Imprints 首席執行官 Mark Melliar-Smith 表示:“四年前我們與佳能共結商業聯盟以向半導體行業提供技術主導型的低成本納米光刻解決方案,我很高興如今我們在追求這一目標上取得了巨大進步。在此成功的基礎上,雙方合并是自然而然的。”

2011年,佳能進入其“全球優良企業計劃”(Excellent Global Corporation Plan) 的第四階段,該計劃的其中一項戰略是通過全球多元化來實現業務發展。佳能首席技術官 Toshiaki Ikoma 博士說:“收購 MII 將加強我們的‘工業及其他’業務部門。由此帶來的創新半導體制造機會讓我們感到非常興奮,我們期待在得克薩斯州奧斯汀建設出先進的技術開發能力。”

得克薩斯大學奧斯汀分校的 SV Sreenivasan 和 Grant Willson 兩位教授所研發的技術為 Molecular Imprints 創立之初的開疆辟土奠定了基礎。過去幾年中,Molecular Imprints 一直與佳能及其他半導體行業基礎設施合作伙伴攜手讓整個行業繼續依照摩爾定律的指導方向,沖破分辨率的限制,同時避免光學和極紫外線 (EUV) 光刻成本負擔的加重。較初用于生產的 J-FIL 技術計劃在未來兩年內用于高級閃存。

佳能將把 J-FIL 運用到先進半導體制造中,與此同時,該合并協議還允許分拆出一家新公司,保留原來的“Molecular Imprints”名稱,而與佳能共同擁有的關鍵人才和權利也能保留在 MII 的知識產權組合中,再加上多個系統平臺能夠支持消費電子和生物醫學應用對納米級圖案成形不斷加大的需求,這些都形成了搶占領先地位的優勢。Molecular Imprints 首席運營官大衛-吉諾 (David Gino) 稱:“我們期待為顯示器、硬盤驅動器,生物技術和其他新興市場帶來低成本納米級制造解決方案。”在與佳能的合并協議完成之前,新的 Molecular Imprints 將被分拆出來,吉諾先生則將擔任這家新公司的首席執行官。

此項合并預計于2014年4月完成,須獲股東及政府批準。

 

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