高級納米結構涂層和設備研發的領導者Rolith, Inc.，今天宣布成功安裝 由Rolith, Inc. 獨家授權SUSS MicroTec AG建造的第 2 代納米結構原型工具 – RML-2 工具。此原型基于 Rolith, Inc. 開發的具有顛覆性的納米光刻技術（滾動掩模光刻 – RML(TM)）。該工具允許用戶在高達1m x 0.3 m的大面積基底材料上以高吞吐量和具有成本效益的方式創建納米結構 。

高吞吐量和低成本納米圖案化技術的實現能夠幫助可再生能源、電子產品和綠色建筑市場提高產品性能并帶來更多創新產品。高效率太陽能電池板、高亮度 LED、防炫目手機和電視屏幕以及低輻射玻璃窗只是 RML 技術可實現的部分高級產品一部分示例。Rolith 具有國際專利的技術基于利用了柱形滾動掩模的近場光刻技術專利實施。這一掩模由 Rolith 制造，并可為滿足特定的客戶應用需求而量身定制。子波長分辨率通過相位移干涉效果或電漿子增強打印結構實現。連續的滾動掩模光刻技術可以低成本提供高吞吐量。

RML-2 工具提升了 2011 年構建的第 1 代工具 RML-1 的較初功能。RML-2 可使用傳送帶樣式的基底處理器處理 1m 長的玻璃板、多個更小的玻璃板或半導體晶片。此外，RML 工藝對基底不平整度有很高的接納性，這一點對建筑玻璃窗或藍寶石 LED 晶片的處理非常有利。

迄今，RML-2 工具已在加利福尼亞普萊森頓Rolith 設施和日本東京Asahi Glass 公司研發設施上成功安裝并取得資質。Rolith 正繼續尋找更多的聯合開發伙伴,實現其各種納米結構技術應用的商業化。

Rolith 創辦者兼 CEO Boris Kobrin 博士說:“對于我們全新光刻技術理念開發的進展,我們感到非常高興。現在，隨著第 2 代 Rolith 光刻工具的投入使用，我們可以有效應對來自多種行業對這一技術快速增長的興趣。”。

SÜSS MicroTec AG 總裁兼 CEO Frank Averdung 先生說：“Rolith創新的光學納米光刻技術和我們的解決方案一起實現了對極小結構的印刷。連續的滾動掩模技術為我們的客戶在大基地的處理提供了全新的功能，”

AGC America, Inc. 總經理 Hiroshi Usui 先生說：“這種工藝允許我們在大面積上創建納米結構并在各種市場中應用。”

關于 Rolith 公司

Rolith 公司運用獨有的納米光刻技術，為家用電子產品、太陽能市場和綠色建筑市場生產高級納米結構產品。Rolith 由 Boris Kobrin 博士、Mark Brongersma 教授以及 Julian Zegelman 及教授于2008年創立，目前公司位于加州普萊桑頓。公司在納米光刻、物質沉積和蝕刻方法以及納米光電子設備領域持有全面的專利組合。Rolith 的戰略合作伙伴包括 SUSS MicroTec AG 和 Asahi Glass Company Ltd.。公司當前的投資者包括 Draper Fisher Jurvetson 的附屬基金 DFJ VTB Capital Aurora（由 VTB Capital 負責管理），以及 Asahi Glass Group 的附屬風投公司 AGC America 。

關于SUSS MicroTec AG

SUSS MicroTec 是半導體行業和相關市場中設備和工業解決方案的領先提供商。通過與研發機構和行業合作伙伴的密切合作，SUSS MicroTec 對下一代技術進步貢獻頗豐，例如 3D 集成和納米光刻以及 MEMS 和 LED 制造的重要工藝。借助應用和服務的全球基礎架構，SUSS MicroTec 為全球超過 8,000 套已安裝的系統提供支持。SUSS MicroTec 的總部位于德國慕尼黑附近的加興。有關詳細信息，請訪問 http://www.suss.com。

關于旭硝子玻璃公司（AGC）

以旭硝子玻璃公司（Asahi）為其核心的旭硝子集團(AGC)，是建筑、汽車、顯示屏、化學及其他高性能材料和組件的全球解決方案提供商。在一個多世紀的技術創新的基礎上，旭硝子集團已在玻璃、化學品和陶瓷領域開發出世界一流的核心技術。