領先的電子束光刻系統提供商Vistec電子束公司宣布，華沙著名機構Electronic Materials Technology (ITME)購買了Vistec的可變電子束系統SB251。這款先進的光刻工具將被用于各種微光和衍射元件、新型材料以及光刻掩膜的研究和制造。

ITME是波蘭領先的研究機構，研究領域涉及材料、創新設備和電子、微觀力學和光電應用組件的研究、開發和制造等多學科領域。ITME總監Zygmunt Luczynski表示：“Vistec的電子束繪圖機具有高性能和靈活性，因此我們選用該產品為研究、開發和制造提供支持。我們預計新型Vistec SB251將為成功達成我們的研發計劃做出巨大貢獻。我們是在歐洲進行招標后，較終決定選擇這款產品的。”

Vistec SB251是一款通用系統，專為直寫和掩膜制造曝光設計。該系統能夠處理并曝光用于半導體和光學應用的透明及非透明材料。該系統配備50kV電子光、1nm地址網和階段行程范圍為210mm x 210mm的曝光平臺，可在各種底膜進行50nm以下光刻，從不超過200mm的晶圓到7英寸的掩膜。該系統擁有圖形用戶界面(GUI)和全自動盒對盒底膜處理，可被ITME這樣多元化、多用戶環境的機構高效利用。此外，該系統配備數據準備軟件包ePLACE（EQUIcon GmbH提供）。

Vistec電子束公司總經理Wolfgang Dorl評論說：“我們的長期合作伙伴ITME獲得了先進的電子束光刻系統Vistec SB251。SB251具有高度靈活性和可靠性，完美適合ITME現在面臨的多元化應用并可應對未來挑戰。我們的合作始于20多年前，很高興ITME向Vistec下了訂單，進一步推進雙方成功的合作關系。”

ITME

ITME是一家波蘭領先的多學科研究機構，致力于開發新型材料和基于電子、微系統、光電、微觀力學、計量等應用的創新工具和組件的材料。該研究機構開發的高科技材料、儀器和組件發表于眾多波蘭和國際期刊，可推動其與大學及研究機構之間開展科學合作，幫助有意客戶實施項目，在業內實施或用于該研究機構的短期連續生產。

ITME制造技術專為半導體材料單晶、氧化物晶體（光學、壓電）、超純金屬、玻璃有源光纖開發。納米技術廣泛用于光子晶體等新型材料和超材料的研究，從而生產超純材料、玻璃有源光纖、光子（一種新型（有源和透明）納米陶瓷和復合材料，擁有可應用于廣泛應用的眾多特性）。

該機構致力于為電子及光電設備、創新激光器、光電探測器、傳感器、濾波器、壓電、衍射透鏡開發外延結構。該研究所繼續發展Jan Czochralski教授提出的單晶生長法理念（廣泛應用于全球）。開發該方法可促進對半導體和氧化物單晶的高度先進技術的后續開發。

欲了解詳情，請訪問：http://www.itme.edu.pl/home-page.html 。