先進移動平臺用戶采用Soitec全耗盡(Fully Depleted)技術
ST-Ericsson 選擇 FD 技術開發高性能低功耗應用處理器 NovaThorTM
全球領先的電子和能源行業半導體材料生產制造商 Soitec (Euronext)今天宣布,無線平臺和半導體領軍企業 ST-Ericsson 已選擇全耗盡平面晶體管技術(FD-SOI)開發設計其下一代移動處理器。 Soitec 創新的基板為全耗盡晶體管技術提供了技術基礎,它以極薄的頂層確保了晶體管的各種關鍵屬性。
ST-Ericsson 首席芯片架構師 Louis Tannyeres 認為:“下一代移動消費電子設備將在保持待機時間的條件下,帶來更優秀的用戶體驗。在開發下一代高性能與低功耗應用的過程中,工藝技術的進步與整體平臺系統設計創新同樣起著十分關鍵的作用。我們與意法半導體在 FD-SOI 方面的合作成果表明,這項技術能夠以頗具成本效益的方式獲得這些益處,令我們的解決方案實現差異化。”
源自 Soitec 的 FD-SOI 晶圓使 NovaThor TM的性能得到顯著提升,而耗電卻更少,在較高性能時能夠節約 35% 的功耗。對于消費者而言,這意味著他們能更長時間地以高速度瀏覽網頁,或者讓待機時間增加一天。
Soitec 首席運營官 Paul Boudre 表示:“很多像 ST-Ericsson 這樣的半導體公司都正在尋求利用現有設計和制造方法,以盡快從全耗盡晶體管架構中受益,而 FD 技術為此提供了一個低風險的方案選項。ST-Ericsson 的這一選擇代表著全行業向 FD 平面 CMOS 技術所邁出的第一步,在晶圓廠采用其他替代制造工藝前就能提前實現其設計目標。Soitec 致力于提供大量制造業不可或缺的高品質晶圓,加速將將全耗盡技術運用到下一代主流移動設備中。”
意法半導體公司研發科技部門副總經理Joël Hartmann表示:“意法半導體公司及Leti、Soitec和IBM等合作伙伴已經為開發FD-SOI技術投入數年。較近,意法半導體已經向業界展示了這種技術與傳統Bulk CMOS技術的重大差異,如在28nm及以下若干種設計中更杰出的性能與更節約的功耗表現。這些特性的結合使得FD-SOI 特別適于應用在無線和平板應用中。FD-SOI技術不僅能得到FinFET全耗盡晶體管帶給平面傳統技術的全部好處,而且還能實現后者無法達到的先進的負偏壓(back bias)技術。對于ST-Ericsson 在其下一代產品中采用FD-SOI 技術,我們感到由衷高興。”
新穎的外觀因素推動半導體制造商必須超越 28nm 工藝節點,傳統的 Bulk CMOS 制作技術顯然無法有效地平衡高性能和低功耗。FD 晶圓實現了平面全耗盡的晶體管架構,使其成為助力半導體公司跨越 CMOS 工藝障礙的突破性技術,讓下一代智能手機和移動計算設備的高效節能處理器成為可能。該架構還是通過實施晶體管技術,以較低的工藝復雜性解決各類隨 CMOS 技術從 28nm到更小級別技術所遇到的問題(如微縮、靜電泄漏和器件特性的不一致性等)的關鍵。
關于全耗盡晶圓
FD 晶圓由氧化埋層(BOx)和 BOx 之上的極薄硅層組成,從而為在此層建成的晶體管提供獨特性能。這類晶圓尤其適用于移動和消費級多媒體應用,與傳統 Bulk CMOS相比,在保持相同性能的前提下,FD 晶圓可節省高達 40% 的功耗。同樣,依據不同的設計優化,以全耗盡晶圓為基礎的處理器峰值性能較高可增長 60%。憑借超低供電(低于 -0.7V)維持優異性能,因此許多超低功耗運行的移動設備才得以實現。此外,全耗盡晶圓由標準晶圓廠工具處理制造,它不僅與諸多傳統低功耗 Bulk CMOS 共用許多工藝步驟,節省了10% 的生產步驟, 以極具競爭力的成本生產成品芯片。
關于 Soitec
Soitec 公司是一家國際性的專業制造公司,是全球領先的電子和能源行業半導體材料生產制造商。Soitec公司的產品包括微電子基板(即廣為人知的SOI絕緣硅)和聚光光伏系統(CPV)。公司的核心技術包括 Smart Cut™、Smart Stacking™ 、Concentrix™ 和晶體外延附生技藝。應用包括消費和移動電子、微電子驅動型IT、電信、汽車電子、照明產品和大型太陽能發電廠。Soitec公司在法國、新加坡、德國和美國設有制造工廠和研發中心。更多信息,敬請訪問:www.soitec.com。
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