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先進(jìn)移動(dòng)平臺(tái)用戶采用Soitec全耗盡(Fully Depleted)技術(shù)

2012年03月14日17:51:52 本網(wǎng)站 我要評(píng)論(2)字號(hào):T | T | T
關(guān)鍵字:應(yīng)用 半導(dǎo)體 汽車 

ST-Ericsson 選擇 FD 技術(shù)開發(fā)高性能低功耗應(yīng)用處理器 NovaThorTM

 

全球領(lǐng)先的電子和能源行業(yè)半導(dǎo)體材料生產(chǎn)制造商 Soitec (Euronext)今天宣布,無線平臺(tái)和半導(dǎo)體領(lǐng)軍企業(yè) ST-Ericsson 已選擇全耗盡平面晶體管技術(shù)(FD-SOI)開發(fā)設(shè)計(jì)其下一代移動(dòng)處理器。 Soitec 創(chuàng)新的基板為全耗盡晶體管技術(shù)提供了技術(shù)基礎(chǔ),它以極薄的頂層確保了晶體管的各種關(guān)鍵屬性。

 

ST-Ericsson 首席芯片架構(gòu)師 Louis Tannyeres 認(rèn)為:“下一代移動(dòng)消費(fèi)電子設(shè)備將在保持待機(jī)時(shí)間的條件下,帶來更優(yōu)秀的用戶體驗(yàn)。在開發(fā)下一代高性能與低功耗應(yīng)用的過程中,工藝技術(shù)的進(jìn)步與整體平臺(tái)系統(tǒng)設(shè)計(jì)創(chuàng)新同樣起著十分關(guān)鍵的作用。我們與意法半導(dǎo)體在 FD-SOI 方面的合作成果表明,這項(xiàng)技術(shù)能夠以頗具成本效益的方式獲得這些益處,令我們的解決方案實(shí)現(xiàn)差異化。”

 

源自 Soitec  的 FD-SOI  晶圓使 NovaThor TM的性能得到顯著提升,而耗電卻更少,在較高性能時(shí)能夠節(jié)約 35% 的功耗。對(duì)于消費(fèi)者而言,這意味著他們能更長(zhǎng)時(shí)間地以高速度瀏覽網(wǎng)頁(yè),或者讓待機(jī)時(shí)間增加一天。

 

Soitec 首席運(yùn)營(yíng)官  Paul Boudre  表示:“很多像 ST-Ericsson 這樣的半導(dǎo)體公司都正在尋求利用現(xiàn)有設(shè)計(jì)和制造方法,以盡快從全耗盡晶體管架構(gòu)中受益,而 FD 技術(shù)為此提供了一個(gè)低風(fēng)險(xiǎn)的方案選項(xiàng)。ST-Ericsson 的這一選擇代表著全行業(yè)向 FD 平面 CMOS 技術(shù)所邁出的第一步,在晶圓廠采用其他替代制造工藝前就能提前實(shí)現(xiàn)其設(shè)計(jì)目標(biāo)。Soitec 致力于提供大量制造業(yè)不可或缺的高品質(zhì)晶圓,加速將將全耗盡技術(shù)運(yùn)用到下一代主流移動(dòng)設(shè)備中。”

 

意法半導(dǎo)體公司研發(fā)科技部門副總經(jīng)理Joël Hartmann表示:“意法半導(dǎo)體公司及Leti、Soitec和IBM等合作伙伴已經(jīng)為開發(fā)FD-SOI技術(shù)投入數(shù)年。較近,意法半導(dǎo)體已經(jīng)向業(yè)界展示了這種技術(shù)與傳統(tǒng)Bulk CMOS技術(shù)的重大差異,如在28nm及以下若干種設(shè)計(jì)中更杰出的性能與更節(jié)約的功耗表現(xiàn)。這些特性的結(jié)合使得FD-SOI 特別適于應(yīng)用在無線和平板應(yīng)用中。FD-SOI技術(shù)不僅能得到FinFET全耗盡晶體管帶給平面?zhèn)鹘y(tǒng)技術(shù)的全部好處,而且還能實(shí)現(xiàn)后者無法達(dá)到的先進(jìn)的負(fù)偏壓(back bias)技術(shù)。對(duì)于ST-Ericsson 在其下一代產(chǎn)品中采用FD-SOI 技術(shù),我們感到由衷高興。”

 

新穎的外觀因素推動(dòng)半導(dǎo)體制造商必須超越 28nm 工藝節(jié)點(diǎn),傳統(tǒng)的 Bulk CMOS 制作技術(shù)顯然無法有效地平衡高性能和低功耗。FD 晶圓實(shí)現(xiàn)了平面全耗盡的晶體管架構(gòu),使其成為助力半導(dǎo)體公司跨越 CMOS 工藝障礙的突破性技術(shù),讓下一代智能手機(jī)和移動(dòng)計(jì)算設(shè)備的高效節(jié)能處理器成為可能。該架構(gòu)還是通過實(shí)施晶體管技術(shù),以較低的工藝復(fù)雜性解決各類隨 CMOS 技術(shù)從 28nm到更小級(jí)別技術(shù)所遇到的問題(如微縮、靜電泄漏和器件特性的不一致性等)的關(guān)鍵。

 

關(guān)于全耗盡晶圓

FD  晶圓由氧化埋層(BOx)和 BOx 之上的極薄硅層組成,從而為在此層建成的晶體管提供獨(dú)特性能。這類晶圓尤其適用于移動(dòng)和消費(fèi)級(jí)多媒體應(yīng)用,與傳統(tǒng) Bulk CMOS相比,在保持相同性能的前提下,F(xiàn)D 晶圓可節(jié)省高達(dá) 40% 的功耗。同樣,依據(jù)不同的設(shè)計(jì)優(yōu)化,以全耗盡晶圓為基礎(chǔ)的處理器峰值性能較高可增長(zhǎng) 60%。憑借超低供電(低于 -0.7V)維持優(yōu)異性能,因此許多超低功耗運(yùn)行的移動(dòng)設(shè)備才得以實(shí)現(xiàn)。此外,全耗盡晶圓由標(biāo)準(zhǔn)晶圓廠工具處理制造,它不僅與諸多傳統(tǒng)低功耗 Bulk CMOS 共用許多工藝步驟,節(jié)省了10% 的生產(chǎn)步驟, 以極具競(jìng)爭(zhēng)力的成本生產(chǎn)成品芯片。

 

關(guān)于 Soitec

Soitec 公司是一家國(guó)際性的專業(yè)制造公司,是全球領(lǐng)先的電子和能源行業(yè)半導(dǎo)體材料生產(chǎn)制造商。Soitec公司的產(chǎn)品包括微電子基板(即廣為人知的SOI絕緣硅)和聚光光伏系統(tǒng)(CPV)。公司的核心技術(shù)包括 Smart Cut™、Smart Stacking™ 、Concentrix™ 和晶體外延附生技藝。應(yīng)用包括消費(fèi)和移動(dòng)電子、微電子驅(qū)動(dòng)型IT、電信、汽車電子、照明產(chǎn)品和大型太陽(yáng)能發(fā)電廠。Soitec公司在法國(guó)、新加坡、德國(guó)和美國(guó)設(shè)有制造工廠和研發(fā)中心。更多信息,敬請(qǐng)?jiān)L問:www.soitec.com

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